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充氬式火花直讀光譜儀CX-9500
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500應(yīng)用領(lǐng)域:
**代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗(yàn),中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。充氬式火花直讀光譜儀CX-9500體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的**選擇。
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500主要特點(diǎn):
1、**代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;
2、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同**光譜儀技術(shù)同步;
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用
4、升級(jí)多基體方便,無須變動(dòng)增加硬件 ;
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;
6、體積小、重量輕, 移動(dòng)安裝方便 ;
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ;
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500其它特點(diǎn):
1、可測(cè)定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦 基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果;
3、光學(xué)系統(tǒng)采用充氬恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性優(yōu)良;
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使光室容積更小,充氬速度不到普通光譜儀的一半;
5、自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,**接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定;
6、開放式的電*架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7、工作曲線采用**標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動(dòng)扣除干擾;
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性;
10、銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;
11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣;
12、采用鎢材料電*,電*使用壽命更長(zhǎng),并設(shè)計(jì)了電*自吹掃功能,清潔電*更加容易;
13、高性能DSP及ARM處理器,具有*高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況;
14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
15、核心器件全部原裝進(jìn)口,**了儀器優(yōu)良品質(zhì)。
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500技術(shù)參數(shù):
光學(xué)系統(tǒng) |
|
光學(xué)結(jié)構(gòu) |
帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 |
自動(dòng)控制恒溫:35℃±0.5℃ |
波長(zhǎng)范圍 |
160-800nm |
光柵焦距 |
300 mm |
光柵刻線 |
3600 l/mm |
上等光譜線色散率 |
1.2 nm/mm |
探測(cè)器 |
多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 |
30pm/pixel |
激發(fā)臺(tái) |
|
氣 體 |
沖氬式 |
氬氣流量 |
激發(fā)時(shí)3-5L/min |
電 * |
鎢材噴射電*技術(shù) |
吹 掃 |
點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補(bǔ) 償 |
熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì) |
分析間隙 |
樣品臺(tái)分析間隙:4mm |
激發(fā)光源 |
|
類 型 |
HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻 率 |
100-1000Hz |
放電電流 |
1-80A |
特殊技術(shù) |
放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì) |
預(yù) 燃 |
高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) |
|
處理器 |
優(yōu)異ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接 口 |
基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 |
|
輸 入 |
220VAC 50Hz |
功 率 |
分析時(shí)*大700W,待機(jī)狀態(tài)40W |
工作溫度 |
10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 |
20-80% |
尺寸與重量 |
|
主機(jī)尺寸 |
700*660*340 mm |
重 量 |
約30Kg |